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厌氧培养箱广泛应用于医学、卫生防疫、食品、交药工业及环境保护等部门。它提供一个适当的温度和气体条件,以适应厌氧菌或微需氧菌、需二氧化碳菌等)的培养生长。
目前,普通的氧培养箱一般共用常规温控仪来断续概制加热器,继面控制箱内温度的.常规温控仪精度约±1℃,加上漏控选择盘精度(±2℃,温控总误差达±3℃左右。而且。阴续控温以及温度发热件不均布
会造成如下缺点:
.温度发热件刚断电时,箱内温度仍上冲,造成温度振荡疲动。温度精度低。
箱内温度场分布不均匀
我们设计的二次控温程式以及温度发热件均布的方法,可有效地克服猛度上冲振蹉及温度场分布不均的缺点。经安装试用,效果较好。
二汰控温程式是对培养箱内系统进行温度初控的同时,对系统内各个培养罐进行二次稍密控温。二次精密控温用正比于温差的触发脉冲个数来控制可挠硅导通角,由可控硅向温度加熬器进行非断续式、电流按温差大小变化的、向设定温度逐步冠近式的供电。加之对其温度发热件进行周愿均布,基本克服了上述缺点。(见图1)